Chanm Silver Plating Ekipman
Rodyòm-Ekipman Plating Ruthenium (JYC-RhRu-Seri)
Bati pou kouch metal presye ki pi difisil yo
Konektè segondè-, kontak glisman, rle, ak elektwòd medikal. Pwodwi sa yo bezwen rezistans mete ekstrèm ak rezistans kontak ki ba. Ekipman Rodyòm-Rodyom Plating nou an fèt pou yo. Kouch Rodyòm gen yon dite Vickers nan 750 a 850. Kouch Ruthenium gen dite nan 700 a 900. Tou de se byen lwen pi rèd pase lò (lò se sèlman 70 a 90). Epesè kouch se tipikman 0.5 a 2.5 mikron. Rezistans kontak se osi ba ke 1 a 5 miliohms. Pèfòmans satisfè ASTM B679 ak MIL-G-45204. LCP electroless kwiv nou an plis modèl plating liy pou Southeast University kontribye nan aplikasyon ayewospasyal nan LCP.
Materyèl ak konstriksyon pou solisyon korozivite
Solisyon Rodyòm ak Ruthenium yo trè korozivite. Tank yo sèvi ak pawa PVDF oswa PTFE. Chofaj yo sèvi ak gwo -pite kwatz oswa platinum-kouvwi Titàn. Sikilasyon solisyon fèmen-bouk ak sistèm koleksyon gaz echapman anpeche gaz danjere. Anòd sèvi ak platinum-kouvwi Titàn may. Sa asire -distribisyon aktyèl ki estab alontèm.
Twa Avantaj debaz yo
Premyèman, dite ak rezistans mete yo trè wo.
Apre yon milyon sik ensèsyon ak ekstraksyon, mete pwofondè sou Rodyòm -rothenium kouch anba 0.1 mikron. Pousantaj nan mete se sèlman youn-senkantyèm nan kouch lò. Sa a se espesyalman bon pou aplikasyon pou kwazman segondè-frekans.
Dezyèmman, rezistans arc se ekselan.
Nan 24V 2A DC chaj, Rodyòm -ruthenium kouvwi kontak montre rezistans kontak ogmante anba 3 miliohms apre 10,000 sik chanje. Pa gen okenn ewozyon arc enpòtan.
Twazyèmman, kouch la pa -pore.
Plating batman kè fè kouch la trè dans. Nan jis 0.75 mikron epè, kouch la pa gen okenn porositë. Sa a se verifye pa tès porosite asid nitrique. Kouch lò bezwen 1.27 mikron pou reyalize menm dansite.
Ki sa ki achtè souvan mande
Achtè yo mande nou: "High-konektè oswa kliyan elektwòd medikal yo gen kondisyon trè wo kalite. Ki jan ou garanti bon jan kalite?" Nou entegre siveyans epesè sou entènèt (XRF) ak sistèm optimize distribisyon dansite aktyèl la. Plak presizyon kontwòl tanperati a se ± 0.5 degre. Ranje dansite aktyèl la se 0.5 a 4 A/dm². Nou sipòte konsepsyon koutim. Vètikal kontinyèl plating oswa pwosesis selektif plating plas yo ka configuré jan sa nesesè. Nou menm tou nou bay Rodyòm ak Ruthenium rekiperasyon soti nan solisyon depanse. Koperasyon nou ak Southeast University sou liy eksperimantal la pwouve kapasite teknik nou an nan koupe -materyèl plakaj.
Espesifikasyon teknik
|
Paramèt |
Spesifikasyon |
|
Rodyòm kouch dite |
750 - 850 HV |
|
Ruthenium kouch dite |
700 - 900 HV |
|
Kouch epesè |
0.5 – 2.5 µm |
|
Kontakte Rezistans |
1 – 5 mΩ |
|
Mete pwofondè (1 milyon sik) |
< 0.1 µm |
|
Porosite (nan 0.75µm epesè) |
Pa gen porositë (tès vapè asid nitrique) |
|
Precision Kontwòl Tanperati |
± 0.5 degre |
|
Ranje dansite aktyèl la |
0.5 - 4 A/dm² |
|
Estanda ki aplikab yo |
ASTM B679, MIL-G-45204 |
Baj popilè: chanm ajan plating ekipman, Lachin chanm ajan plating ekipman manifaktirè, Swèd, faktori
Ou ka renmen tou
Voye rechèch